二阶段，一切正常。

    十二分钟后。

    温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-0.01至0.01埃每秒之间波动，膜厚显示仍为0.00埃。

    三分钟后。

    温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。

    当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。

    许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

    钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。

    待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。

    随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。

    最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。

    半小时后。

    束源炉的温度降低至77摄氏度。

    许秋关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。

    这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路中的
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