有弊，闪蒸也是有缺点的，那就是会让蒸镀得到的薄膜变得不均匀。

    举一个不太形象的例子，可以把蒸镀的过程想象下冰雹的过程，器件表面想象成为泥土地面，蒸镀速率越快，冰雹颗粒越大，下落的速度越快，就更容易把地面给砸出坑来。

    对应在蒸镀过程的体现，就是蒸镀速率越快，靶材分子越会倾向于渗入有效层或者传输层薄膜中，从而形成不同位置厚薄不同的金属电极。

    当金属电极的总厚度比较厚的时候，厚薄不均匀的影响不大，假设膜厚在100纳米，厚度的偏差在10纳米，最终得到的厚度分布也会是10010纳米，自然不会影响到电极的导电性能。

    可如果厚度比较薄的时候，这个影响就明显了，厚度是1010纳米，有些地方就直接断路了。

    因此，现在蒸镀1纳米的金，9纳米的银的双层薄层电极，为了保证电极的连续性，不仅不能闪蒸，而且还要进一步压低蒸镀速率。

    许秋计划选用的蒸镀速率是0.2埃每秒左右，和蒸镀三氧化钼传输层的速率相当，这样蒸1纳米的金，需要大约1分钟，9纳米的银，大约需要7分半钟，比平常蒸镀的时间还要短。

    理论合理，实践开始。

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